亚洲一级AV无码毛片不卡麻豆 _老色鬼久久亚洲AV综合妇女_亚洲不卡一区二区三区免费视频_国产精品亚洲一级第三区_亚洲欧美V国产一区二区三区精品免费_亚洲国产中文综合在线观看不卡_亚洲欧美日韩一区二区在线观看_亚洲综合AV无码一区二区三区_久久亚洲AV毛片精品一区_国产亚洲欧美日韩精品色狠

氧化硅拋光液的優勢、應用和產品參數如下：

優勢：

均勻的球形SiO2粒子，可循環使用多次。

去除率高，拋光性能穩定，可選用中性或弱酸性拋光液對應。

精密的拋光質量，Ra<0.2nm、TTV<3μm。

有效減少拋光后的表面劃傷，降低拋光后的表面粗糙度。

適用于35℃以下的低溫拋光工藝。

高平坦化研磨加工。

由高純納米二氧化硅復合配置而成，通過高科技術分散成納米顆粒，高含量分散均勻的納米拋光液。

應用：

微晶玻璃的表面拋光加工。

硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程，適用于大規模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。

晶圓的后道CMP清洗等半導體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機系統、光導攝像管等的加工過程。

廣泛用于CMP化學機械拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工。

產品參數：

主要成分：SiO2。

外觀：白色液體。

密度：1.15±0.05g/cm3。

稀釋率：<1:1.15±0.05。

pH值：9.8±0.5（1～10）。

拋光溫度：10～38℃。

拋光壓力：9.8±0.5Pa。

請注意，在實際使用過程中，需要根據具體情況調整參數，以達到最佳的拋光效果。